精密光學顯微鏡-光學物鏡零件、組件設計廠家
熱設計及分析
對于高性能光學系統，熱設計和分析應該從概念設計階段開始。利
用閉環的、參數簡單的熱模型進行一階分析和靈敏度研究，弄清熱傳遞
中傳導、對流及輻射等模式，從而就可以識別合適的熱管理策略。在所
有方案中，被動熱控技術由于其成本低、可靠性高及簡單等特點經常成
為設計的首選。
隨著熱設計逐漸成熟，可以建立更為復雜的熱模型，進而就能夠預
i貝4一系列極端工作條件下詳細的溫度分布。這些高置信度的模型可以
解釋許多方面的問題，其中包括：幾何形狀的細節、內熱源(諸如電子
元件的散射)、外熱源(諸如太陽和紅外輻射)、熱容、連接面傳導性、
吸收率與輻射率、鍍膜及周圍表面的鏡面反射系數／熱擴散性、壽命起
點及終點熱屬性，以及熱控解決方案如加熱、絕緣、熱管、冷凝板以及
輻射器等。通過這些分析，可以確保滿足零件、組件以及系統的熱設計
要求。
除了進行零部件及系統級的熱試驗外，通過熱一結構一光學性能的
集成分析，也可以對熱管理策略進行驗證和確認。
干涉圖文件是二維地圖，它是基于線性延遲模型對空間變化的應力
場建模的一個近似技術舊。雙折射和晶軸方向可以由光學模型中分配到
每個光學表面的瓊斯矩陣推導得到。應力雙折射干涉圖文件較適用于平
行光線入射到非主動式建模的(nonpowered)光學元件上的情況，對于主
動式建模的鏡片(powered optics)以及非平行光，可以根據工程師的判
斷來評估應力對光學性能的近似影響。
