拋光實驗表面粗糙度-分析表面粗糙度和表面形貌
磁頭的超精密拋光是存儲介質行業一項十分重要的工作，用于
產生一個平面度好、表面粗糙度值很小的表面，且只允許在磁頭與
存儲介質間(如磁盤等)有很小的間隙，這項工作可以通過對幾個加
工參數優化得到，主要包括拋光劑的種類、拋光盤材料、拋光盤和
工件的速度、拋光時間、拋光時施加給工件的壓力等。
供了磁頭拋光加工時材料去除率和表面粗糙度的實驗數據
，這兩個參數由于反映了消費者需求，因此被磁頭制造商們認為是
較重要的兩個因素。在磁頭的超精密拋光這個過程中，主要為了得
到拋光劑類型與材料去除率間的關系，拋光劑的特征參數包括顆粒
尺寸、濃度、數量等。
采用單晶和多晶磨粒的拋光劑對工件加工效果的影響規律。
在超精密拋光時，改變拋光劑類型將改變加工特征，從而改變材料
去除率和表面粗糙度。
對磁頭超精密拋光進行研究時，首先要對磁頭的表面粗糙
度和材料去除率進行定性和定量分析。保持其他參數恒定，僅改變
拋光劑類型，可根據消費者在批量、經濟性、表面質量等方面的不
同要求，制定出較優的選擇。
拋光實驗時，保持其他幾個參數(拋光盤材料、拋光盤表面粗
糙度、時間、負載、速度、拋光劑的量)恒定，對四種不同拋光劑
進行研究。實驗時首先利用拋光盤進行加工，直至工件的粗糙度達
到20～30微米，較大凹度達到25微米。下一階段實驗是對拋光盤使
用拋光劑時對工件的表面紋理進行研究，將12kg的負載施加到陶瓷
環上，加工時間大約為99min。
將5．5kg的負載加到工件上，研磨加工時間大約為99min
，然后將清洗和測量后的工件裝入工件固定器，每批次加工6件，
工件與工件間呈60度擺放，每批拋光大約12min，接著在清洗槽里
用1％酒精試劑清洗，然后重新測量。完成這些后再利用原子力顯
微鏡觀察工件，分析表面粗糙度和表面形貌。
