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光切顯微鏡測量或光學截面表面粗糙度測量儀




來源:yiyi
時間:2016-5-8 1:07:46

光切顯微鏡測量或光學截面表面粗糙度測量儀


   對于不透明覆層厚度則應采吊有損測量。在這兩種測量
方法中,由于儀器的原因或使用不當,都可能影響測量結果的準
確度.對于有損測量,若試樣制備的質量不佳,則乏對測量結果
產生影響。下面就有關影響因素加以敘述。
    (1)表面粗糙度光學法測量覆層厚度一般都非常薄,因
而要求基體表面的加工粗糙度很低,一定要非常平滑。如果覆層和
基體表面粗糙,或者覆層和基體表面相對于覆層厚度是粗糙的,
9lb在觀察視場內,將由于覆層和基體的界面不規則,而不可能進
行準確的測量。
    (2)斷面不正  當拋磨試樣斷面或加工臺階斷面不垂直,
在測量厚度時,可能會產生誤差。在斷面顯微鏡測量中,一般每
傾斜10°由此導致的誤差達1.5%。
    (3)覆層變形  在斷面顯微鏡和掃描電子顯微鏡測量中,
如對試樣的鑲嵌溫度過高或壓力過大,都有可能造成試樣的覆層
變形;對軟覆層或低溫易熔化覆層進行斷面拋磨,以及對脆性材
料過分砂磨,都可能造成覆罷變形,將會帶來測量誤差。
    (4)覆層邊緣磨圓  覆層斷面邊緣如被磨圓,則不成平
面,這樣在顯微鏡觀察就很難測出真實厚度。在試樣鑲嵌、研
磨、拋光、浸蝕等操作中,如操作不適當都有可能導致邊緣被磨
圓.通常,在拋磨試樣上加一層保護層,則可以防止邊緣磨圓.
 (5)浸蝕:當浸蝕試樣條件較佳,將會在兩種金屬界面形
成清晰的狹窄邊界線。如果條件不佳,則邊界線寬,也不清晰,
因而不可能準確地測量。
  (6)表面沾污  當拋光試樣斷面留有沾污的金屬,特別是
在鉛、銦、金等軟金屬界面情況下容易發生,以致界面不易準確
地測量。對此,一般采取多次拋光和多次測量的方法。
  (7)對比度差當兩種金屬原子序數十分相近,如光亮鎳
和半光亮鎳,在掃描電子顯微鏡測量時,它們可見對比度差,除
非浸蝕邊界很清晰,以及采用適當的測試方法,否則是難以識
別的.

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