應用電子顯微鏡透射鑒定電鍍膜孔隙-孔隙直徑測量
用一種測定微孔隙的方法
來研究膜形成的機理。他們在理論觀點上認為每個微孔隙形成了
氧化物細胞的中心，并從下面的此較加以證實，即以電子顯微鏡
所得到的細胞底面花樣(采用陽極氧化膜截面的聚苯乙烯印痕和
硅土復膜)與同樣陽極氧化條件下在電子顯微鏡中用透射法檢驗
膜本身所得到的孔隙花樣進行此較。所有細胞大小可從細胞底面
花樣的顯微相片直接測定
假定孔隙直徑恒定不變，描繪細胞大小與電壓的關系曲線，
粘附力
氧化膜的粘附力一般較電鍍屢好得多，但垂直于表面方向的
膜是弱的，即膜在滾軋方向易于橫斷破裂。當彎曲時膜成平行線
破裂，但并不像電鍍層那樣剁落。雖然如此，當陽極氧化的電流
中斷后，仍需謹慎地不能讓陽極氧化過的工作停留在電解液中，
因為這樣會使氧化膜疏松而減低粘附力。一般，膜的粘附力隨溫
度的升高、酸度、采用直流電、電流密度的降低和處理時間的延
長而增加。
硬度和耐磨性
氧化膜本身非常之硬，但它對于增加金屬本身的有效硬度還
嫌太薄。它能抵抗表面刮痕，因而可保護拋光表面的外觀和反射
性，但它不能保護金屬經受強的壓力。氧化膜的硬度對鉻、玻璃
和鋼的比較已列于表7，對氧化膜不同膜層的硬度差別也已表
達。
一般，膜層的硬度隨電解液溫度的降低、酸濃度的減小、電
解液浸蝕性的減弱而增加，并隨合金結構均勻性的增加和電流密
度的增加而增加。此外，用直流電產生的膜較用交流的更硬。
通常用來測定硬度的布氏、維氏等試驗方法都不能應用于陽
極氧化膜，因為它們得到的是基體金屬的硬度。洛氏劃痕法或莫
氏所改進的方法(他用金剛石尖頭)也并不完全滿意。在這些方
法中，試樣都在加負荷的尖頭下作水平移動，從劃痕的寬度來計
算硬度。由此得到的結果都僅是近似值，基體金屬的不同硬度或
整個膜本身所具的不同硬度均未考慮在內。
