顆粒度分析視頻電子顯微鏡-顆粒圖像分析軟件
　　　　　　　　　　　　　　　　　　
    在任何分析中，關于顆粒的較佳測量數目都沒有固定不
變的規定，這是因為其中存在一個過去很少被注意的統計學
問題，如果測量的顆粒數太少，就不能得到完全的方位型式，
而且作出的方位圖會過分受可見的或不被觀測者懷疑的顯微
域的影響。相反，如果測量的顆粒數過多，就會不適當地占

用本該用于另一樣本的時間。一般地說，對于石英光軸和云
母解理，測量400 到500 個顆粒是合適的；對于二軸晶礦物
的三個光率體軸或對于方解石光軸和伴生的雙晶中解理面，
100 到200 個顆粒是較佳測量數目——特別是組構是均勻的，
橫測線間距寬的情況下是如此。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　
    顯微亞組構與小型褶皺的幾何關系是特別重要的，此間
的主要問題是，確定隱含在褶皺面中的構造不均勻性，是否
伴隨有顯微亞組構的相應不均勻性。在確定后者是否均勻，
必須要切自一個單褶皺不同域的一套定向薄片上，逐個薄片
地進行研究。

(本文由上海光學儀器廠編輯整理提供, 未經允許禁止復制http://www.xjwdx.com)