芯片輪廓量測影像測量儀-顯微鏡專業廠商
硅芯片影像擷取就現有單次涂布的制程而言,已配置一組CCD影像設備,作為芯片邊界對位誤差之檢測與補償。然而,目前使用的CCD影像設備每次擷取
整片芯片輪廓,雖然其像素相當高,但由于取像范圍過大,分辨率無法適用于兩次涂布的制程。經由分析,若每次都需擷取整片芯片的影像,其像素將相當高,影像所需的儲存空間也相當大,超過目前已知的所有CCD設備能力。因此,需要分多次取像,以作為涂布區域對位計算的資訊。本研究分別擷取芯片邊界的四個角落及涂布電極邊界之四個角落,
但因電極左下角印有一個標志,因此必須避開此標志,分別擷取標志左上方及右下方之電極邊界。另外,于儲存影像的同時,必須將影像檔案名稱命名為機臺上顯示的影像中心座標位置,以方便各局部影像于芯片上位置的計算,明確得知區域對位關系。因此,不但可減少影像擷取的像素及影像儲存的空間,也可透過幾張局部影像,經過軟體分析后,得知各局部影像與整張芯片的相對位置關系,而作為后續對位補償的依據
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