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由于光學顯微鏡的解析能力受限于光波的波長,而高能電子束具有很短的物質波波長,
可達到優于光學顯微鏡的解析度及影像放大倍率。穿透式電子顯微術(transmission electron microscopy,TEM)的
光學系統包含數組電磁鐵構成的電磁透鏡。
電磁透鏡是以特別方式纏繞導線制成的電磁鐵,應用運動中的電子會受到磁場
作用而轉彎的原理,可達到聚焦電子束的效果,
于是電子在電子顯微鏡電磁透鏡作用下可作到光學成像效果。穿透式電子顯微鏡的亮場(bright eld)
影像是較常見的操作模式,其成像原理是利用試片上不同位置材料或厚度的不同,
對入射的電子束造成不同程度的衰減,據此來建立影像的對比。
當電子束穿過樣品中低電子密度區域時(厚度薄或是輕元素區域),
電子束受到吸收或散射的程度較低,會有較多的電子穿過樣品抵達底片,造成較高的曝光程度,
反之樣品較厚的區域可吸收大部分的電子, 使得底片曝光程度較低,這個技術使得儀器可獲得百萬倍的放大倍率
但是由于電子顯微鏡的制備非常昂貴以及標本制作的麻煩所以普及率并沒有那么高
上海光學儀器一廠光學儀器顯微鏡專欄