掃描式電子顯微鏡觀察影像需要專業電腦分析
電子顯微鏡
一般光學顯微鏡的解析度僅達1000納米，小于100 納米的材料必須穿透式電子顯微鏡及
掃描式電子顯微鏡觀察。拍攝得納米粉體照片后，經人工或電腦影像分析，可計算出粉體的平均粒徑及分布。
X 光繞射儀
納米粉體表面的晶體結構較內部不完整，因此會使 X 射線繞射光譜變寬。
藉由其光譜寬化的程度，可計算得整體平均粒徑大小。但其缺點是無法得知粒徑分布狀態。
沉降式粒徑分析儀
一物質在液體中沉降時，因沉降運動會產生阻力，故沉降速度會越來越慢，
較后達一固定速度〈稱為終端速度〉，以等速沉降。此沉降速度與粉體粒徑有關。
利用可見光或 X 光量測終端速度后，可計算出粉體粒徑及其分布范圍。
使用 x 光繞射分析晶體結構與材料粒徑卻有其限制，即僅能用于分析具結晶結構。
當材料制成納米微粒后，其表面結構可能會變的較為蓬松與不規則。
因此使用此一方法所估得粒徑，將可能小于實際的粒徑。在極端狀況下，若納米微
粒形成非晶相 (amorphous)，則不適宜使用此一方法。
因此，為了確認所得到的粒徑為真，必須再透過其他方法如原子力顯微鏡 (AFM) 與穿遂電子顯微
鏡 (TEM) 來確認材料粒徑。
