金屬鍍層測量顯微鏡廠家-金屬電鍍技術簡介
電鍍是一種應用廣泛的工業技術。許多產品，小自腕表、珠寶首飾，大至電腦機
殼、汽車及高科技的航太科技材料、以及較先進的半導體制程，都會利用到電鍍的方
式，以便將特定金屬均勻的包覆在物件的表面。
可是金屬鍍層的品質和功能，往往因為存在著微小缺陷而不能提升到一定的要求。
電鍍過程是一種極為複雜的電化學反應，在電解液中各種氧化還原反應同時發生并互
相競爭，到目前為止仍然沒有一種儀器能有效觀測電解液中所有
發生的反應，即使是電化學家也僅能依據事后的產物以化學式來
描繪電鍍時所發生的事件。
一般認為鍍層中微觀缺陷其所以形成，與電鍍過程中所產生的氣泡
有密切關系。數十年來，許多研究人員雖然鍥而不舍的探索這個
問題，但是由于缺乏適當的觀察研究工具，對于這些氣泡到底是
如何形成、形成以后又是如何影響電鍍金屬的成長，一直沒有得
到確切的答案。因此只能利用經驗法則，開發各種電鍍配方，
以抑制氣泡的形成，或是降低金屬缺陷形成的機率。然而以高解析度的 X 光顯微術進行即
時觀察，可以獲得電鍍各個階段的珍貴資訊。氫離子與金屬離子在陰極表面同時被還原，
而導致金屬建構在氫氣泡表面的奇特現象，此為世界首
度發現，依此可解釋在電鍍層中形成空孔缺陷的原因
