掃瞄穿隧式顯微鏡的原理-精密光學儀器常識

原子力顯微技術

原子力顯微鏡

自從 1982 年掃瞄穿隧式電子顯微鏡(STM)發明之后，開啟了可以直接探索原子尺度的表面結構，
方便我們取得樣品表面的影像，
此后各式不同功用的掃瞄探針顯微鏡(SPM)也相繼不斷地被發展出來，

而以 1986 年所發明的原子力顯微鏡(AFM)用途較廣。

由于掃瞄穿隧式顯微鏡是使用量子穿隧效應做為回饋控制的訊號，樣品需為導體或半導
體，且系統要求需在高真空環境下進行，才能使影像的解析度更好，
但也降低了其實用性與便利性。

然而原子力顯微鏡，它可在大氣環境及液體下操作，受測樣品不須具有導電性，所以研究及應用的領域范
圍就更加寬廣，
加上它的解析度也可達到奈米級，對微區結構的表面幾何形貌、粗糙度等特性，提供了微小量技術的主要利器。
尤其對于傳統掃瞄電子顯微術無法清楚解析之樣品，更是較佳的檢測工具

AFM 儀器系統架構，分為三個主要部分：掃瞄控制主體系統、電子控制系統、及隔離防震系統

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