分析設備介紹-電子掃描型顯微鏡放大倍數：20～3000倍

EPMA電子探測X射線微量分析儀

用途： 可定性定量分析SEM圖像上的化學元素及指定元素的毛刺發生可能性。
（放大倍數：40～3000倍）

SEM（電子掃描型顯微鏡）

用途： 從剖面觀察角度來判斷焊料合金的焊接狀態（開裂、空洞、合金層），
焊料的表面觀察以及元件的剝離情況等。
（放大倍數：20～3000倍）