什么是表面電場分布的掃描靜電力顯微鏡技術？
原子力顯微鏡技術已儼然成為掃描探針顯微鏡的入門技術。
原子力顯微鏡在納米級表面形貌分析的成功經驗，
使得研究人員得以更廣泛利用原子力顯微鏡的架構從事各種物理量的二維掃描偵測、分析與研究，
也因此衍生出應用于表面磁性分析的掃描磁力顯微鏡技術(magnetic force microscopy，MFM)；
應用于表面電場分布的掃描靜電力顯微鏡技術(electrostatic force microscopy，EFM)
；應用于表面光學特性分析的掃描近場光學顯微鏡技術(scanning near-field optical microscopy，SNOM)；
應用于表面電性分析的掃描電流顯微鏡技術(conductive atomic force microscopy，C-AFM)、掃描展阻顯微鏡技術(scanning spreading resistance microscopy，SSRM)
與掃描電容顯微鏡技術(scanning capacitance microscopy，SCM)；
以及應用于表面硬度分布的原子力超音波顯微鏡技術(atomic force acoustic microscopy，AFAM)等。
電性掃描探針顯微鏡技術包括掃描電容顯微鏡、掃描電流顯微鏡、掃描展阻顯微鏡以及靜電力顯微鏡四個主要技術領域，
